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需要控制氣體於固定值嗎?

氣體流量的控制是氣體動力中發展迅速的領域。它雖然是看似微小的改變卻能產生極大的幫助。這個改變可藉由靜態或動態裝置來完成。靜態裝置如管孔或粗糙零件不需要外加動力,在定義上是屬於靜態。動態裝置則需要驅動器也就是需要動力(例如電磁閥及驅動器)。驅動方式可能是預先安排的(開路式控制)或是依據感應器監測流量的狀況(閉路式控制)而定。

動態或靜態氣體流量控制?

在設計階段,當需要某特定氣體流量其誤差在1%以內時,許多工程師都會想到 MFC(大流量控制器)。當整體系統進行測試調整時,MFC大都設為固定值,使氣體供應的特性(介質、入口壓力、溫度及其他)維持固定。

MFC雖然可用,但若和SFC(靜態流量控制器)相比,SFC的價格便宜的多,並且MFC每年還需要校準。依據不同應用,您的成本與標準工業級流量控制器相比將可能節省達70%。SFC laminair flow

用於SFC也可產生平層流。

什麼是SFC?

靜態流量控制器(SFC)是用於精準控制氣體流量高達40 slpm的裝置。靜態流量控制器在設計及校準後可將特定氣體控制在特定流量。SFC可設定在某個特定靜態條件下運作,甚至包括真空條件或是流量精準度控制在+/- 1%。此可靠的機械式裝置可控制流量於固定值且變動量約為+/- 0.1%。SFC可規劃配置想要的接頭例如1/4"端面密封或1.125"IGS C型密封接頭。SFC均為100%校準後測試通過,且每個零件均通過品質認證,其流速資料符合NIST主要標準(近似MFC!),通過He滲漏測試且不需再校準。

SFC Static flow controller

為高科技應用而設計

機械式的設計:簡單且不易損壞。所有靜態流量控制器具有一入口、一出口以及內有一多孔金屬零件。SFC的設計精巧,藉由關鍵設計而節省了空間。它是針對UHP應用,以316L不鏽鋼製成,表面處理為10 Ra且是在ISO等級5的無塵室中製造的,因此非常適合半導體製程。在半導體製程中需要穩定的平層流,例如蝕刻製程、化學氣相沉積、磊晶沉積、離子植入、原子層沉積、反應槽清洗、晶圓輸送模組、加載鎖及鏡頭冷卻等等。此外在其他OEM或研究應用中,還可發現許多要求氣體流量須為固定值的場合。

要選擇正確的靜態流量控制器,您必須收集下列資訊:

  • 所需的流速 (單位為sccm或slpm)
  • 使用的氣體(如氮氣)
  • 上游壓力 (單位為psi或bar)
  • 下游壓力 (單位為psi或bar)
  • 使用的連接形式 (客戶選項)
  • 使用時氣體操作溫度 (°C 或 °F)

Static gas flow control

Dynamic gas flow control

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